IONPURE VNX55-EX大流量 CEDI (连续电去离子) 膜堆
IONPURE VNX 膜堆 VNX55-EX
CEDI (连续电去离子) 膜堆
VNX55-EX 膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 连续电去离子 (CEDI) 技术生产高纯水，对硅、硼去除率极高，专门针对电子行业所需的超纯水系统而开发。
VNX55-EX 膜堆的标准产水流量为 12.5m3/h (55gpm)，通过并联多个VNX55-EX 膜堆可以使单套系统产水量到 228m3/h (1000gpm) 以上。
VNX55-EX 膜堆特点
产水电阻率 18MΩ.cm，最佳适用于微电子和 UPW 系统
硅、硼去除率 ≥99%
Na+ 和 CI- 去除率 ≥99.9%
最大的进水硬度：1ppm (以 CaCo3 计)
回收率 95-97.5% 达到高节水和循环使用
连续产水，水质稳定无波动；不需要使用酸/碱中和系统和树脂罐
Through-port 垫片密封连续运行无泄漏
占地面积小、减少系统集成成本、安装维护简单
运行费用远低于传统离子交换
膜堆附带水力接头和配有电力接线盒
IONPURE® VNX55-EX 大流量连续电去离职 (CEDI) 膜堆
运行环境
室内安装，避免阳光直射，室内最高环境温度不超过45°C (113°F)。
制造材料
膜堆中接触水的组件材料包括：PVC，聚苯醚，PP，聚硅氧烷，离子交换膜，离子交换树脂，和热塑性高弹体。壳体为玻璃纤维增强塑料 (FRP)。标准颜色为白色带抛光。可根据客户要求定制壳体颜色和标识。支架/端承座为环氧化树脂喷涂的铸铝件，既可以用于将膜堆固定到机架上，也可以用于膜堆与膜堆间的连接。
质量标准
CE 认证产品。膜堆生产工厂已通过 ISO9001 和ISO14000 认证。每个膜堆在出厂前都经过了测试，保证性能，并确保内部管件、电路的完整性，以符合严格的IONPURE 标准和工业标准。
